中国电子科技集团公司第二十四研究所介质层淀积设备（SIH4+TEOS）（重新招标）-公开招标公告

 
1. 招标条件
本招标项目介质层淀积设备（SIH4+TEOS）招标人为中国电子科技集团公司第二十四研究所，招标项目资金来自自筹资金，出资比例为100%。该项目已具备招标条件，现对介质层淀积设备（SIH4+TEOS）进行国内公开招标。

2. 项目概况与招标范围
2.1 招标编号：ZKX20240429A028

2.2 招标项目名称：介质层淀积设备（SIH4+TEOS）。

2.3 数量：1台。

2.4 主要功能要求：该设备为国产全新8寸SIH4+TEOS混源的介质淀积设备，自带SMIF（或同类装置），RFID及EAP通讯功能，配置三个PECVD TWIN Chamber（2个SIH4腔，1个TEOS腔，所有腔室均配置LH+HF组件），拥有PEOX工艺、SRO工艺、SIN工艺、SRN工艺、SION工艺、FSG工艺和USG工艺等功能，每个Chamber拥有In-situ N2 plasma处理功能。

2.5 交货地点：重庆沙坪坝西永微电园西永大道23号。

2.6 交货期：合同生效后150天。

3. 投标人资格要求
3.1投标人须为具有独立承担民事责任能力的在中华人民共和国境内注册的法人或其他组织，具备有效的营业执照或事业单位法人证书或其它营业登记证书。

3.2业绩要求：投标人提供本次投标同型号或同系列的设备从2020年至今的任意一年的销售业绩，且一年中累计销售量至少10台；须提供设备采购合同复印件，其内容须体现合同首页及签字或盖章页（合同供货方可以是本次投标人也可以是本次所投设备制造商）、合同签订时间、合同标的物及其型号。

3.3 其它要求：本次招标接受代理商投标。投标人若为代理商，则须提供所投产品制造商的授权书。

3.4本次招标不接受联合体投标。

3.5投标人必须向招标代理机构购买招标文件并进行登记才具有投标资格。

4. 招标文件的获取
4.1凡有意参加投标者，请于2024年03月14日至2024年03月21日17时(北京时间)购买并下载招标文件，现场不予受理。

4.2 招标文件每套售价800元，售后不退。

欲购买招标文件的投标人,请联系办理供应商会员事宜，成为正式供应商后根据招标公告的相应说明在线完成招标文件的购买!为保证您

能够顺利投标，具体要求及购买标书流程请联系010-68818478

联系人：刘静

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