招标公告
中航技国际经贸发展 受中国航空工业集团公司西安飞行自动控制研究所委托，对双面对准投影式光刻机【重新招标】进行公开招标。现欢迎合格投标人参加投标。
1. 招标条件
本招标项目双面对准投影式光刻机【重新招标】 该项目已具备招标条件，现对双面对准投影式光刻机【重新招标】进行公开招标。
2.项目概况与招标范围
招标编号：0730-2411010218/01
设备名称：双面对准投影式光刻机【重新招标】
数量：壹套
项目概况与招标范围：双面对准投影式光刻机
3. 投标人资格要求
3.1 招标文件简要技术要求：设备用途： 双面对准投影式光刻机通过微缩投影成像方式，把掩模版上MEMS微结构图形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重复曝光在涂有胶层的硅片表面，并且能够通过背对准方式实现同一晶圆的双面加工。 其他详见招标文件具体要求。
3.2资格业绩要求：（1）资质要求：投标人应具备有效的营业执照或事业单位法人证书，投标文件中提供复印件。 制造商资质要求：制造商应具备有效的营业执照或事业单位法人证书，投标文件中提供复印件。 （2）财务要求：投标文件中提供2022年或2023年经审计的财务审计报告（至少包含资产负债表、现金流量表、利润表和审计报告）。 （3）投标人业绩：投标人提供2020年1月1日至今研制同类设备2套以上（含2套）的成功案例，需提供双方签署盖章的有效合同或技术协议复印件，以合同签订时间为准。 （4）信誉要求：在经营活动中，无严重违法失信记录，具有良好的信誉。提供相关证明材料（如信用中国或各级信用信息共享平台的查询结果）或信誉承诺书。 设备用途： 双面对准投影式光刻机通过微缩投影成像方式，把掩模版上MEMS微结构图形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重复曝光在涂有胶层的硅片表面，并且能够通过背对准方式实现同一晶圆的双面加工。 其他详见招标文件具体要求。
3.3 本次招标不接受联合体投标。
4.
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来源：中国电力招标采购网
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招标清单，报名申请表等。为保证您能够顺利投标，具体要求及购买标书操作流程按会员区招标信息详细内容为准。
编辑：ebid.eavic
