1. 招标条件
本招标项目高精度无掩膜光刻系统 该项目已具备招标条件，现对高精度无掩膜光刻系统采购进行国内公开招标。
2. 项目概况与招标范围
2.1 招标编号：ZKX20260341A012
2.2 招标项目名称：高精度无掩膜光刻系统
2.3 数量：1台
2.4 设备用途及系统组成：
设备用途：高精度无掩膜光刻系统采用先进的数字光刻技术，无需掩模版即可直接将图形转移到涂有光刻胶的衬底上。该设备具备高套刻精度和高曝光速度的特点，适用于集成光子芯片研发及量产环节中的电极图形曝光：在快速研发阶段，可高效处理大面积、低分辨率要求的电极图形；在量产阶段，因其无需定制掩模板的特性，有助于降低成本和缩短周期，实现高效的电极图形曝光。
系统组成：高精度无掩膜光刻系统主要由曝光系统，对准系统，环控系统，软件系统，数据系统五大模块组成。
2.5 交货
2.6 交货期：合同签订生效后6个月内。
3. 投标人资格要求：
3.1 投标人须具有独立承担民事责任能力的在中华人民共和国境内注册的法人或其他组织，具备有效的营业执照或事业单位法人证书或其它营业登记证书。
3.2 财务要求：投标人应附2024年经会计师事务所或审计机构审计的财务会计报表，包括审计报告正文、资产负债表、现金流量表、利润表的复印件。投标人的成立时间少于上述规定年份的，应提供成立以来的财务报表。投标人为科研院所、高等院校等事业单位的可提供经审计的或单位内审的2024年财务报表。
3.3 业绩要求：投标人所投标设备2022年1月1日至今同品牌同型号的销售量≥3台，提供设备销售业绩证明（提供有效的合同首页、技术协议及验收报告等证明材料复印件）。
3.4 信誉要求：投标人在经营活动中，无严重违法失信记录，具有良好的信誉。提供相关证明材料（如信用中国或国家企业信用信息公示系统或中国执行信息公开网的查询结果）或信誉承诺书。
3.5 本次招标不接受联合体投标。
3.6 本次招标接受代理商投标，一个制造商对同一品牌同一型号的设备，仅能委托一个代理商参加投标。提供制造商的授权书原件。(本设备指″高精度无掩膜光刻系统”)
3.7 投标人必须向招标代理机构
