1. 招标条件
本招标项目全自动CMP抛光系统 该项目已具备招标条件，现对全自动CMP抛光系统进行国内公开招标。
2. 项目概况与招标范围
2.1 招标编号：ZKX20260341A030
2.2招标项目名称：全自动CMP抛光系统
2.3 数量：1套
2.4 设备用途及系统组成：
设备用途：全自动CMP抛光系统主要应用于量子传感、硅光、MEMS等含有微纳图形的晶圆加工工艺中实现均匀性和原子级表面平整的抛光。
系统组成：全自动CMP抛光系统主要由EFEM单元、研磨抛光单元、清洗单元机械传输单元等组成。
2.5 交货
2.6 交货期：合同签订4个月内到货。
3. 投标人资格要求：
3.1 投标人须具有独立承担民事责任能力的在中华人民共和国境内注册的法人或其他组织，具备有效的营业执照或事业单位法人证书或其它营业登记证书。
3.2 本次招标不接受联合体投标。
3.3 本次招标接受代理商投标。一个代理商对同一品牌同一型号的设备，仅能委托一个代理商参加投标。提供制造商针对本项目（带本项目招标编号）的授权书（原件）。
3.4 财务要求：投标人应附2024年经会计师事务所或审计机构审计的财务会计报表，包括审计报告正文、资产负债表、现金流量表、利润表的复印件。投标人的成立时间少于上述规定年份的，应提供成立以来的财务报表。投标人为科研院所、高等院校等事业单位的可提供经审计的或单位内审的2024年财务报表。
3.5 信誉要求：投标人在经营活动中，无严重违法失信记录，具有良好的信誉。提供相关证明材料（如信用中国或国家企业信用信息公示系统或中国执行信息公开网的查询结果）或信誉承诺书。
3.6 投标人必须向招标代理机构
