招标公告 1. 招标条件 本招标项目IPD膜层沉积刻蚀系统 该项目已具备招标条件，现对IPD膜层沉积刻蚀系统进行国内公开招标。 2. 项目概况与招标范围 2.1 招标编号：ZKX20230405A038 2.2 招标项目 2.3 数量：1套。 2.4 主要功能要求：IPD膜层沉积刻蚀系统为实现TXV转接板和气密封装基板MIM电容金属沉积、介质沉积、介质刻蚀及过程中干法去胶的系统，包括圆片溅射台、介质沉积系统、介质刻蚀系统、光刻底膜去除机（descum）、低温等离子去胶机等5台套设备，实现集成无源器件电极膜层、介质膜层、互连电路的沉积、刻蚀完整工艺能力，贯通IPD无机电容集成和互连微孔工艺。 2.5 交货 2.6 交货期：自合同签订之日起，供货周期不超过8个月，9个月内具备验收条件。 3. 投标人资格要求 3.1法人要求：本次招标要求投标人为在中华人民共和国关境内注册的独立法人单位，并具有与本招标项目相应的供货能力。 3.2财务要求：投标人为企业单位的提供2022年经会计师事务所或审计机构审计的财务会计报表，上述财务会计报表至少应包括审计报告正文（审计报告必须由会计师事务所盖章、注册会计师签名和盖章，未经签字盖章的审计报告视为无效审计报告，投标将被否决）、资产负债表、现金流量表、利润表的复印件，缺一不可。投标人的成立时间少于上述规定年份的，应提供成立以来的财务状况表。投标人为科研院所、高等院校等事业单位的提供2022年经审计（或内审）的财务报表。 3.3业绩要求：投标人提供2020年01月01日至投标截止时间签订合同且已验收的具有金属沉积或介质沉积或介质刻蚀等功能的产品或系统的供货业绩证明材料（合同金额≥600万元），提供附带有技术要求或技术协议的合同复印件及验收证明材料，合同内容应能体现甲乙双方盖章页（供货业绩需为所投产品制造商生产的设备，合同销售方不限）、合同签订时间、标的物名称、合同金额、技术要求或技术协议等可以体现业绩相关性的主要内容，验收证明材料为验收报告复印件或已完成验收承诺（承诺函自拟）等证明材料。未按上述要求提供的业绩证明均不予认可。 3.4信誉要求： （1）投标人未被列入军队采购供应商失信名单，不在军队采购供应商被处罚禁入期内（提供承诺函）。 （2）投标人未被最高人民法院列入失信被执行人名单，提供信用中国或中国执行信息公开网查询结果。投标人为科研院所、高等院校等事业单位的，可书面承诺投标人未被列入失信被执行人名单。 3.5其它要求：本次招标接受代理商投标。如代理商投标的，投标人需提供圆片溅射台、介质沉积系统、介质刻蚀系统、光刻底膜去除机和低温等离子去胶机的制造商的有效授权。投标人可自行生产上述设备中的某个设备的，需提供其余设备的制造商授权。一个制造商仅能委托一个代理商参加投标，制造商和代理商不能同时参加投标。 3.6本次招标不接受联合体投标。 3.7投标人对响应条款应承担履约责任，若签约后无法履约，将纳入中国电子科技集团 供应商负面清单，并追究其法律责任。 3.8投标人必须向招标代理机构 4. 招标文件的获取 4.1 ta>未在中国电力招标采购网（www.dlztb.com）上注册会员的单位应先点击注册。登录成功后的在招标会员区根据招标公告的相应说明获取招标文件！ |
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IPD膜层沉积刻蚀系统公开招标公告
2023-10-30IP属地 北京00
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dlztb007
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招标马上开始。。。
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