招标公告
1. 招标条件
本招标项目介质层淀积设备（SIH4+TEOS） 该项目已具备招标条件，现对介质层淀积设备（SIH4+TEOS）进行国内公开招标。
2. 项目概况与招标范围
2.1 招标编号：ZKX20240429A022
2.2 招标项目名称：介质层淀积设备（SIH4+TEOS）。
2.3 数量：1台。
2.4 主要功能要求：该设备为国产全新8寸SIH4+TEOS混源的介质淀积设备，自带SMIF（或同类装置），RFID及EAP通讯功能，配置三个PECVD TWIN Chamber（2个SIH4腔，1个TEOS腔，所有腔室均配置LH+HF组件），拥有PEOX工艺、SRO工艺、SIN工艺、SRN工艺、SION工艺、FSG工艺和USG工艺等功能，每个Chamber拥有In-situ N2 plasma处理功能。
2.5 交货
2.6 交货期：合同生效后150天。
3. 投标人资格要求
3.1投标人须为具有独立承担民事责任能力的在中华人民共和国境内注册的法人或其他组织，具备有效的营业执照或事业单位法人证书或其它营业登记证书。
3.2业绩要求：投标人提供本次投标同型号或同系列的设备从2020年至今的任意一年的销售业绩，且一年中累计销售量至少10台；须提供设备采购合同复印件，其内容须体现合同首页及签字或盖章页（合同供货方可以是本次投标人也可以是本次所投设备制造商）、合同签订时间、合同标的物及其型号。
3.3 其它要求：本次招标接受代理商投标。投标人若为代理商，则须提供所投产品制造商的授权书。
3.4本次招标不接受联合体投标。
3.5投标人必须向招标代理机构
