PECVD设备-公开招标公告

1. 招标条件

本招标项目PECVD设备 该项目已具备招标条件，现对PECVD设备采购进行国内公开招标。

2. 项目概况与招标范围

2.1 招标编号：ZKX20240101A002

2.2招标项目名称：PECVD设备。

2.3 数量：1台。

2.4 项目概述：PECVD设备主要用于氧化硅、氮化硅膜的沉积。

2.4.1 可生长SiO2、Si3N4；

2.4.2 适用基片尺寸：150mm（6吋）Notch wafer；100mm（4吋）Flat Wafer。

2.5 交货

2.6 交货期：合同签字生效后10个月货到用户成都项目现场。

3. 投标人资格要求

3.1 投标人须为具有独立承担民事责任能力的在中华人民共和国境内注册的法人或其他组织，具备有效的营业执照或事业单位法人证书或其它营业登记证书。

3.2投标人须提交开标前三个月内其基本帐户 3.3 投标人须提供近三年无重大违规行为的承诺，格式自拟。

3.4 本次招标不接受联合体投标。

3.5 本次招标接受代理商投标。若投标人为代理商，则需提供制造商针对本次投标设备出具的有效授权函，且同一品牌同一型号仅能委托一家投标单位参与投标。

3.6投标人必须向招标代理机构

4.

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来源：中国电力招标采购网
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编辑：365trade