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低应力高致密薄膜沉积设备(ICPCVD)中标结果公告(1)

2024-11-0600

【中国国际招标网】

项目名称:低应力高致密薄膜沉积设备(ICPCVD)

招标项目编号:0664-2440SUMECK10/02

招标范围:低应力高致密薄膜沉积设备(ICPCVD)

招标机构:苏美达国际技术贸易有限公司

招标人:苏州第三代半导体技术国创中心

开标时间:2024-10-22 14:00

公示时间:2024-10-31 14:16 - 2024-11-04 23:59

中标结果公告时间:2024-11-05 18:55

中标人:Shintec Equipment Co., Limited

制造商:Oxford Instruments Nanotechnology Tools Limited, trading as Oxford Instruments Plasma Technology

制造商国家或地区:英国

编辑:chinabidding.mofcom.gov
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